삼성·SK, 美 반도체법 말 바꾸기에 中 공장 축소하나

삼성·SK, 美 반도체법 말 바꾸기에 中 공장 축소하나

트럼프, 보조금 수혜 기업 中 공장 문제 삼을 가능성

미중 갈등·공정 전환 맞물려 中 생산 비중 줄어들 듯



(서울=연합인포맥스) 김학성 기자 = 미국 정부가 반도체법(CHIPS Act)에 따른 보조금 지급 조건 재협상을 저울질하는 것으로 알려지면서 국내 기업들이 긴장하고 있다.

특히 재검토 이유 가운데 하나로 보조금 수혜 기업들의 중국 투자가 꼽힌 것으로 알려지면서 중국 공장 운영을 둘러싼 이들 기업의 셈법이 복잡해질 전망이다.





17일 주요 외신에 따르면 미국 도널드 트럼프 정부는 반도체법 보조금 지급 조건을 다시 들여다보고 있다.

국내 기업으로는 삼성전자[005930]와 SK하이닉스[000660], SKC[011790]의 유리기판 자회사 앱솔릭스가 전임 조 바이든 정부로부터 현지 투자 대가로 보조금 지급을 약속받은 바 있다. 보조금 규모는 47억4천500만달러(약 6조9천억원)로 삼성전자가 제일 많고, SK하이닉스 4억5천800만달러, 앱솔릭스 7천500만달러 순이다.

지난달 정권 교체가 이뤄지긴 했지만, 최종적으로 체결된 계약을 정부가 뒤집으려 한다는 점에서 파장이 크다.

주목할 대목은 트럼프 정부가 반도체법 보조금을 수령할 기업의 중국 사업 확장을 문제 삼은 것으로 전해졌다는 점이다.

실제로 인텔은 지난해 3월 보조금 지급과 관련한 예비각서(PMT)를 체결한 뒤 같은 해 10월 3억달러(약 4천350억원)를 투입해 중국 청두의 패키징·테스트(후공정) 공장을 확장한다고 발표했다.

비록 삼성전자와 SK하이닉스가 보조금 계약 체결 이후 중국향 대규모 투자를 발표한 적은 없지만, 점점 가능성이 커지고 있는 미국 정부와의 보조금 재협상에서 보다 유리한 조건을 끌어내기 위해 중국 생산 비중을 줄일 것이란 분석이 나온다.

이미 이들 기업은 극자외선(EUV) 노광장비와 같은 첨단 반도체 장비 중국 반입 규제, 레거시에서 선단 제품으로의 포트폴리오 전환이 맞물리면서 중국 생산 비중 축소 가능성이 높은 상태다.

삼성전자는 중국 시안(낸드플래시)과 쑤저우(후공정)에, SK하이닉스는 우시(D램)와 다롄(낸드플래시), 충칭(후공정)에 반도체 공장을 두고 있다.

한국기업평가에 따르면 지난해 1분기 기준 삼성전자의 메모리반도체 중국 생산 비중은 낸드플래시가 28%였다. SK하이닉스는 D램과 낸드플래시가 각각 41%, 31%로 집계됐다.





아울러 중국 시장 대응이 주된 목적인 현지 공장의 중요성도 낮아지는 추세다.

2016년 설립된 중국 D램 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)는 중국 정부의 반도체 자립 정책에 힘입어 시장 점유율을 빠르게 확대 중이다.

한국신용평가에 따르면 CXMT의 전체 D램 웨이퍼 생산 비중은 지난해 8.1%에서 올해 11%로 증가할 전망이다.

CXMT와 마찬가지로 2016년 출범한 양쯔메모리테크놀로지(YMTC)도 낸드플래시 영역에서 중국 내 입지를 넓히고 있다.

또 삼성전자와 SK하이닉스가 국내 평택과 용인 등지에 메모리반도체 생산을 위한 인프라 투자를 지속하는 점도 중국 생산 비중을 낮추는 요소다.

반도체 업계 관계자는 "기업들의 대규모 국내 투자가 진행 중이라는 점에서도 중국 생산 비중은 줄어들 것"이라고 말했다.

hskim@yna.co.kr



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