심자외선

DUV

심자외선(DUV)은 파장 약 190~365나노미터(㎚) 범위의 자외선을 말한다. 반도체 제조에서는 이 빛을 광원으로 이용해 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 형성하는 노광(Lithography) 공정에 사용된다.

DUV는 일반 자외선보다 파장이 짧아 매우 미세한 회로를 구현할 수 있다. 반도체 공정에서는 주로 248㎚의 크립톤 플루오라이드(KrF)와 193㎚의 아르곤 플루오라이드(ArF) 엑시머 레이저가 광원으로 사용된다.

반도체 회로가 미세화되면서 DUV 노광은 멀티패터닝(Multi-patterning) 기술과 결합해 첨단 공정에도 활용되고 있다. 이후 13.5㎚ 파장의 극자외선(EUV) 노광기술이 등장했지만, DUV는 메모리 반도체와 차량용 반도체, 전력반도체, 이미지센서, 성숙 공정 기반 시스템 반도체 생산에서 여전히 핵심 기술로 활용되고 있다.