일본 스미토모화학, 2030년 반도체 소재 매출 두 배 목표

(서울=연합인포맥스) 배수연 기자 = 일본의 대표적인 소부장 기업인 스미토모 화학(TSE:4005)이 새로운 성장 동력에 대한 투자를 강화하면서 2030회계연도까지 반도체 제조재료 매출을 두 배 이상 늘릴 계획이라고 밝혔다.

와타 케이이치 스미토모 화학 사장은 29일 닛케이 아시아와 인터뷰를 통해서 이같이 밝혔다.

스미토모 화학은 석유화학과 제약 부문의 부진으로 지난 3월 결산 회계연도에서 역대 최대 적자를 기록했다. 스미토모 화학은 부진을 타개하기 위해 사업 포트폴리오의 재편을 준비 중이다.

와타 케이이치 사장은 사업 영역을 5개에서 4개로 개편할 예정이라고 강조했다. 그동안 탄력적 대응을 위한 자원 부족에 시달렸다는 이유에서다. 앞으로는 농약과 반도체 소재를 비롯한 정보통신기술 분야가 성장동력으로 자리매김할 것이라는 게 와타 케이이치 사장의 설명이다.

그는 포토레지스트 및 반도체 재료 부문의 매출이 향후 주력으로 자리 잡을 것이라고 강조했다.

그는 2023회계연도에 반도체 소재 매출이 1천억엔(6억 4천만 달러)을 조금 넘었고, 2030회계연도에는 그 두 배 이상인 3천억엔을 목표로 하고 있다고 밝혔다. 그는 해당 목표 달성을 위해 일본 오사카와 한국의 레지스트 생산 증가가 포함된다고 덧붙였다. 그는 또 2024회계연도에는 반도체 제조에 사용되는 세정용 화학 제품 생산을 위한 미국 공장을 신설할 예정이다.

스미토모 화학은 반도체 소재 사업 성장의 핵심이 될 것으로 예상되는 EUV(극자외선) 노광용 포토레지스트의 개발에도 박차를 가할 예정이다. 스미토모화학은 2027년 이후 상용화될 차세대 EUV용 포토레지스트를 개발하고 있으며 금속을 사용하지 않는 저분자 유기 포토레지스트로 경쟁할 예정이다.

포토레지스트는 광화학적 반응을 통해 미세 패턴을 형성하는 데 사용되는 물질이다.

극자외선 노광용 포토레지스트는 특히 반도체 제조 및 다양한 마이크로전자 제품의 생산 과정에서 중요한 역할을 한다.

극자외선 노광용 포토레지스트는 일종의 미세한 필름으로, 노광 과정에서 노광기를 통해 미세한 빛을 조사함으로써 미세한 패턴을 형성한다. 이 과정에서 노광기에 의해 발생하는 광자는 포토레지스트 내의 화학 반응을 유도하고, 그 결과로 원하는 패턴이 형성된다. 이후 적절한 화학 처리를 통해 포토레지스트를 제거하고, 원하는 재료의 패턴이 형성된다. 나노 단계의 반도체를 제작하는 데 필수적인 기술이다. 극자외선 노광용 포토레지스트는 높은 해상도와 정확한 패턴 형성이 가능하기 때문이다.

관련종목: 스미토모 화학(TSE:4005)

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