삼성전자·하이닉스, EUV 일찍 받는다…산업부, 국내 도입 최대 25일 단축
(서울=연합인포맥스) 윤은별 기자 = 정부가 반도체 핵심 공정에 사용되는 EUV(극자외선) 장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화해, 도입 기간이 최대 25일 단축될 전망이다.
산업통상부는 2일 국무회의에서 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부개정안이 의결됐다고 밝혔다. 이는 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조 장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하는 것이 골자다.
반도체 공정에 필수적인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함돼, 그동안 현행 법령상 '고압가스 제조설비'로 분류돼 왔다.
이에 따라 EUV 장비 설치 때마다 기술 검토와 검사를 받아야 했고, 이 과정에서 장비 도입이 지연된다는 현장 의견이 제기돼 왔다.
이번 개정안으로 EUV 장비 도입 기간은 장비당 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축되고, 해외 공인 검사기관 내압·기밀 검사 비용도 장비당 약 5억원 절감될 것으로 예상된다.
이에 삼성전자[005930], SK하이닉스[000660] 등 국내 반도체 기업들이 첨단 제조 장비를 신속히 도입·가동할 수 있을 것으로 보인다.
김정관 장관은 "이번 법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례"라며 "앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나가겠다"고 말했다.
[출처: 산업통상부]
ebyun@yna.co.kr
윤은별
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