화학기상증착법
chemical vapor deposition
반도체 등의 집적회로(IC) 제조공정에서 열ㆍ전기로 원료 가스의 화학작용을 일으켜 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 기술이다. 실리콘 산화막, 실리콘 질소막, 아모르퍼스 실리콘(Amorphous Silicon) 박막 등을 만드는데 이용된다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나 고주파로 플라스마화해 원료물질의 반응성을 높이면 기판 위에 흡착된다.
chemical vapor deposition
반도체 등의 집적회로(IC) 제조공정에서 열ㆍ전기로 원료 가스의 화학작용을 일으켜 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 기술이다. 실리콘 산화막, 실리콘 질소막, 아모르퍼스 실리콘(Amorphous Silicon) 박막 등을 만드는데 이용된다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나 고주파로 플라스마화해 원료물질의 반응성을 높이면 기판 위에 흡착된다.