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ArF
아르곤과 불소의 화합물로 무색의 가스이다.193nm의 파장을 가진 자외선 레이저를 생성하는 데 사용되는 가장 일반적인 가스 중 하나이다.이는 현재 반도체 제조에 가장 널리 사용되는 노광 기술인 DUV(Deep Ultraviolet) 리소그래피에 필수적이다.
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