2나노미터 공정
2나노미터(nm) 공정은 반도체 칩 내부 회로의 선폭이 2나노미터인 초미세 공정 기술로 인공지능(AI) 반도체와 같은 고성능 칩 제조에 필수적이다.
2나노미터 공정의 핵심은 반도체 칩 내부 회로의 선폭을 2나노미터 수준으로 줄이는 것이다.
1나노미터는 10억분의 1미터로, 머리카락 두께의 약 10만분의 1에 해당하는 극도로 작은 크기다.
이러한 초미세 공정은 반도체의 성능과 효율을 크게 향상시킨다. 회로 선폭이 좁을수록 같은 면적에 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있어 처리 속도가 빨라지고 전력 소모가 줄어든다.
2024년 12월 현재 삼성전자와 TSMC 등 글로벌 반도체 기업들이 2나노 공정 기술 개발에 총력을 기울이고 있다.
삼성전자는 2025년, TSMC는 2025년 양산을 목표로 하고 있어 치열한 경쟁이 예상된다.
한편, 2나노 공정은 주로 시스템 반도체 제조에 사용되며, 메모리 반도체에는 적용되지 않는다. 이는 높은 기술력과 비용이 요구되기 때문이다.
