경제·금융 용어사전

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고액현금거래보고제도

Currency Transaction Report

고액현금거래보고제도(CTR)는 동일 금융회사에서 하루 동안 1,000만 원 이상의 현금거래가 발생하면 금융회사가 그 거래 내용을 금융정보분석원(KoFIU)에 자동으로 보고하도록 한 제도이다.

CTR은 금융회사의 주관적인 판단에 따라 자금세탁이 의심되는 거래를 보고하는 의심거래보고제도(STR, Suspicious Transaction Report)와 달리, 일정 금액 이상의 현금거래가 발생하면 의심 여부와 관계없이 자동으로 보고하는 제도이다. 자금세탁, 탈세, 불법자금 유통 등 금융범죄를 예방하고 금융거래의 투명성을 높이기 위해 도입됐으며, 금융정보분석원(KoFIU)은 보고된 거래 정보를 심사·분석한 뒤 관계기관의 요청이나 법률이 정한 절차에 따라 수사기관 등에 제공할 수 있다.

우리나라는 「특정 금융거래정보의 보고 및 이용 등에 관한 법률(특금법)」에 근거해 2006년 1월부터 고객확인제도(CDD·KYC)와 함께 시행하고 있다. 보고 기준금액은 도입 당시 5,000만 원이었으나 2008년 3,000만 원, 2010년 2,000만 원, 2019년 7월 1,000만 원으로 단계적으로 인하됐다. 금액 산정은 동일 금융회사에서 동일인 명의로 이뤄진 하루 동안의 현금 입금과 출금을 각각 합산해 기준금액 초과 여부를 판단하며, 계좌이체 등 현금의 실제 수수가 없는 거래는 보고 대상에서 제외된다. 보고 대상은 금융회사와 특금법이 정한 보고의무자이며, 보고 사실은 거래 당사자에게 통보되지 않는다.

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창신메모리

ChangXin Memory Technologies

창신메모리(CXMT)는 중국의 메모리반도체 기업으로, D램(DRAM)을 개발·생산하는 중국 최대 메모리반도체 제조업체 중 하나이다.

창신메모리는 2016년 중국 안후이성 허페이에서 설립됐으며, 중국 정부와 지방정부의 지원을 바탕으로 메모리반도체의 국산화를 추진하고 있다. 주요 제품은 PC, 서버, 모바일기기, 자동차, 산업용 장비 등에 사용되는 D램으로, 중국의 반도체 자립 전략을 대표하는 기업으로 평가받고 있다.

창신메모리는 공정 미세화와 생산능력 확대를 통해 글로벌 D램 시장에서 경쟁력을 높이고 있으며, 삼성전자, SK하이닉스, 마이크론 등 기존 메모리 기업들과 경쟁하고 있다. 다만 첨단 반도체 제조장비와 핵심 기술에 대한 미국의 수출통제로 인해 최첨단 공정 개발에는 일정한 제약을 받고 있는 것으로 평가된다.

2026년 7월 27일 창신메모리는 중국 상하이증권거래소 과학혁신판(STAR Market)에 상장했다. 기업공개(IPO)를 통해 약 579억 위안(약 86억 달러)을 조달하며 2026년 아시아 최대 규모의 IPO를 기록했으며, 상장 첫날 주가가 공모가 대비 약 466% 상승하면서 시가총액은 3조2천억~3조3천억 위안(약 690조~720조 원)에 달했다.

이는 중국 A주 시장(상하이·선전거래소) 시가총액 1위에 해당하는 규모로, 중국의 반도체 자립 전략과 인공지능(AI) 확산에 따른 메모리반도체 산업의 성장 가능성에 대한 시장의 높은 기대를 보여주는 상징적인 사건으로 평가된다. 다만 같은 날 삼성전자와 SK하이닉스의 시가총액은 각각 약 1,485조 원과 약 1,294조 원을 기록했다.

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SK하이닉스

SK hynix Inc.

SK하이닉스(SK hynix Inc.)는 대한민국의 메모리 반도체 전문기업으로, D램(DRAM), 낸드 플래시(NAND Flash), 고대역폭메모리(HBM), SSD 등을 개발·생산하는 세계적인 반도체 기업이다.

SK하이닉스는 1983년 현대전자산업으로 설립됐으며, 이후 현대전자와 하이닉스반도체를 거쳐 2012년 SK그룹에 편입되면서 현재의 사명인 SK하이닉스를 사용하고 있다. 2012년 SK그룹은 하이닉스반도체를 인수하며 반도체 사업에 본격 진출했고, 이후 SK하이닉스는 대규모 연구개발과 설비투자를 바탕으로 AI 시대를 대표하는 메모리 반도체 기업으로 성장했다.

외환위기 이후 경영난을 겪으며 구조조정을 거쳤으나, 메모리 반도체 기술 경쟁력을 바탕으로 세계적인 반도체 기업으로 성장했다. 특히 D램과 낸드 플래시 분야에서 삼성전자(Samsung Electronics), 마이크론 테크놀로지(Micron Technology)와 함께 세계 3대 메모리 반도체 기업으로 평가된다.

주요 제품은 D램, 낸드 플래시, 고대역폭메모리(HBM), 기업용 SSD, 모바일 메모리 등이며, 데이터센터, AI, 스마트폰, PC, 서버, 자동차 등 다양한 산업에 공급된다.

2021년에는 인텔(Intel)의 낸드 플래시 사업부를 인수해 SSD와 기업용 스토리지 사업을 강화했으며, 이를 기반으로 자회사 솔리다임(Solidigm)을 출범시켜 글로벌 낸드 시장 경쟁력을 확대했다.

생성형 AI 확산으로 고대역폭메모리(HBM) 수요가 급증하면서 SK하이닉스는 HBM 시장의 주요 공급업체로 자리매김했다. 엔비디아(NVIDIA)를 비롯한 주요 AI 반도체 기업에 HBM을 공급하며 AI 메모리 시장을 선도하고 있으며, HBM3E에 이어 차세대 HBM4 개발과 양산을 추진하고 있다.

AI 메모리 시장의 성장에 힘입어 SK하이닉스의 실적과 기업가치도 크게 확대됐다. 2025년에는 매출 97조 1,467억 원, 영업이익 47조 2,063억 원으로 창사 이래 최대 실적을 기록했으며, 반도체 매출 기준 세계 3위 기업으로 올라섰다. 또한 D램 분야에서 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖추고 있으며, 특히 고대역폭메모리(HBM) 시장에서는 세계 1위 기업으로 평가된다. AI 반도체 수요 확대에 힘입어 HBM 시장점유율은 50%를 웃도는 수준을 유지하며 글로벌 시장을 선도하고 있다.

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삼성전자

Samsung Electronics Co., Ltd.

삼성전자는 대한민국을 대표하는 종합 전자기업이자 세계적인 메모리 반도체 기업으로, D램(DRAM), 낸드 플래시(NAND Flash), 시스템 반도체(System Semiconductor), 스마트폰, TV, 가전제품 등을 개발·생산하는 글로벌 기술기업이다.

삼성전자는 1969년 삼성전자공업으로 설립됐으며, 1974년 한국반도체를 인수하면서 반도체 사업에 본격 진출했다. 이후 대규모 연구개발과 설비투자를 바탕으로 메모리 반도체와 스마트폰, 소비자 가전 등 다양한 분야에서 세계적인 경쟁력을 확보했다.

1990년대 초 세계 D램 시장 1위에 오른 이후 메모리 반도체 분야에서 글로벌 선도 기업의 지위를 유지하고 있다. D램, 낸드 플래시, SSD 등 메모리 제품은 물론, 모바일 애플리케이션 프로세서(AP), 이미지센서(ISOCELL), 파운드리(Foundry) 등 시스템 반도체 사업도 함께 운영하고 있다.

주요 제품은 D램, 낸드 플래시, 고대역폭메모리(HBM), SSD, 모바일 프로세서(Exynos), 이미지센서(ISOCELL), 스마트폰(Galaxy), TV, 디스플레이 패널, 생활가전 등이며, 반도체부터 완성제품까지 폭넓은 사업 포트폴리오를 보유하고 있다.

삼성전자는 세계 최대 규모의 메모리 반도체 생산능력을 갖추고 있으며, 2025년에는 AI 반도체 시장의 성장에 대응해 HBM, 차세대 D램, 첨단 패키징, 2나노(GAA) 공정 등 차세대 반도체 기술 경쟁력을 강화했으며, 파운드리 사업에서도 첨단 공정 개발과 생산 역량 확대를 추진했다.

2025년에는 반도체 부문 매출 약 725억 달러를 기록하며 엔비디아(NVIDIA)에 이어 세계 반도체 기업 매출 2위를 기록했다. 메모리 반도체에서는 D램과 낸드 플래시 시장을 선도하고 있으며, HBM 분야에서는 SK하이닉스와 경쟁하고 있다. 또한 메모리 반도체와 시스템 반도체, 파운드리 사업을 모두 영위하는 세계적인 종합 반도체 기업으로 평가된다.

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온라인 플랫폼 독점규제에 관한 법률

Online Platform Competition Act

온라인 플랫폼 독점규제에 관한 법률(온플독점법)은 시장지배적 온라인 플랫폼 사업자의 독점적 지위 남용과 반경쟁 행위를 예방하기 위해 추진되는 법안이다. 일정 기준 이상의 플랫폼 사업자를 사전에 지정해 경쟁을 제한하는 행위를 규제하는 것을 핵심 내용으로 한다.

온플독점법은 온라인 플랫폼 시장에서 독점적 지위를 가진 사업자의 불공정 행위를 기존 공정거래법보다 강화된 방식으로 규율하기 위해 마련된 법안이다. 일정 규모 이상의 플랫폼 사업자를 시장지배적 사업자로 지정한 뒤 자사 우대(Self-preferencing), 끼워팔기(Tying), 멀티호밍(Multi-homing) 제한, 최혜대우 요구(MFN·Most-Favored Nation), 경쟁 사업자 차별 등 시장 경쟁을 저해하는 행위를 금지하는 내용을 담고 있다.

이 법안은 디지털 플랫폼 시장의 특성을 반영해 기존 공정거래법의 사후 제재 중심 규제에서 벗어나 일정 요건을 충족하는 플랫폼 사업자에 대한 사전 규제를 도입하려는 것이 특징이다. 다만 혁신 저해 가능성, 글로벌 빅테크 기업에 대한 역차별 논란, 한·미 통상 문제 등을 둘러싸고 다양한 의견이 제기되고 있다.

온플독점법은 거래의 공정성과 입점업체 보호를 목적으로 하는 온라인 플랫폼 공정화법(온플공정법)과 함께 '온라인플랫폼법(온플법)'을 구성하는 핵심 법안으로 논의되고 있다.

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ASML

ASML Holding N.V.

ASML은 1984년 네덜란드 필립스와 ASMI의 합작으로 아인트호벤에서 설립되었으며, 이듬해인 1985년 현재 본사가 위치한 벨트호벤으로 이전한 세계적인 반도체 제조 장비업체로, 극자외선(EUV) 노광(Photolithography) 장비 분야에서 전 세계적으로 독점적인 지위를 확보하고 있다.

1990년대부터 EUV 기술 개발을 추진했으며, 2010년대 후반 양산용 EUV 노광장비를 상용화했다. 이는 7나노미터 이하 첨단 반도체 공정 구현의 핵심 장비로 자리 잡았으며, 현재 ASML은 EUV 노광장비 시장에서 사실상 독점적인 지위를 유지하고 있다.

주요 고객사로는 삼성전자, SK하이닉스, TSMC, 인텔 등 글로벌 반도체 선두 기업들이 있으며, 2025년 연간 매출 327억 유로(전년 대비 16% 증가)를 달성하며 반도체 공급망의 핵심 병목(Bottleneck) 지점으로 기능하고 있다. 연간 순시스템 매출 중 EUV 시스템 비중은 2024년 38%에서 2025년 48%로 확대됐다.

2026년 현재, ASML은 차세대 미세화 기술인 하이-NA(High Numerical Aperture) EUV 장비의 상용화를 추진하며 기술 경쟁력을 더욱 강화하고 있으며, 인공지능(AI) 인프라 투자 확대에 따른 수요 증가로 2026년 연간 매출 전망치도 430억~450억 유로로 상향 조정한 상태다. 미국의 대중국 반도체 수출 통제 등 지정학적 리스크의 주요 대상으로 그 전략적 중요성은 더욱 증대되고 있다.

한편 2026년 7월 27일 중국 정부의 지원을 받는 반도체 장비업체가 자체 개발한 침지형(ArF Immersion) DUV 노광장비의 생산 개시를 발표하면서, ASML의 EUV 독점 구도와는 별개로 DUV 노광장비 시장에서 중국 기업의 경쟁력 강화 가능성이 부각됐다. 이 소식이 전해진 당일 ASML 주가는 큰 폭으로 하락했으며, Applied Materials, Lam Research, KLA 등 주요 반도체 장비 기업의 주가도 약세를 보였다. 시장에서는 중국의 반도체 장비 국산화가 예상보다 빠르게 진전되고 있다는 점을 반영한 것으로 평가했지만, 해당 장비는 생산성·정밀도·신뢰성 측면에서 아직 ASML의 최첨단 제품과는 상당한 기술 격차가 있는 것으로 평가된다.

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DUV 노광장비

DUV Lithography System

DUV 노광장비는 심자외선(DUV)을 광원으로 이용해 반도체 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 형성하는 반도체 제조장비이다. 포토마스크의 회로 패턴을 감광재(Photoresist)가 도포된 웨이퍼에 전사하는 핵심 설비로, 반도체 생산에서 가장 널리 사용되는 노광장비이다.

DUV 노광장비는 주로 248㎚(KrF)와 193㎚(ArF) 엑시머 레이저를 사용하며, 최첨단 장비는 ArF 침지(Immersion) 기술을 적용해 높은 해상도와 정밀도를 구현한다. 극자외선(EUV) 노광장비보다 제조 및 운영 비용이 낮고 생산성이 높아 현재도 대부분의 반도체 공정에서 활용되고 있으며, EUV 공정에서도 일부 레이어는 DUV 장비가 함께 사용된다.

DUV 노광장비 시장은 네덜란드의 ASML이 세계 시장을 주도하고 있으며, 일본의 니콘(Nikon)과 캐논(Canon)도 일부 장비를 공급하고 있다.

2026년 7월 27일 중국은 자체 개발한 침지형(ArF Immersion) DUV 노광장비의 생산 개시를 발표했다. 이는 중국 반도체 장비 국산화의 중요한 진전으로 평가됐으며, 글로벌 반도체 장비 시장과 관련 기업들의 주가에도 영향을 미쳤다. 발표 이후 ASML을 비롯해 Applied Materials, Lam Research, KLA 등 주요 반도체 장비 기업의 주가가 하락했으며, 삼성전자, SK하이닉스, 마이크론 등 메모리 반도체 기업도 중국 반도체 산업의 경쟁력 강화 가능성이 부각되면서 투자심리에 영향을 받았다. 다만 해당 장비의 생산성, 정밀도, 신뢰성은 향후 추가적인 검증이 필요한 것으로 평가된다.

적용사례:
- D램(DRAM), 낸드 플래시(NAND Flash) 등 메모리 반도체 제조
- 차량용 반도체 및 전력반도체 생산
- CMOS 이미지센서 제조
- 성숙 공정 기반 시스템 반도체 생산
- EUV 공정과 병행되는 첨단 반도체 노광 공정